28说明了在氧化层上刻出图形的过程步在wafer上生长一薄层氧化物接下来，滴光刻胶到旋转的wafer上用烘焙炉去除溶液并使光刻胶变硬光刻曝光后，用溶液洗掉曝光区域的光刻胶，露出氧化层留下的光刻胶作为氧化层。

大部分的电子产品，如计算机移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联常见的半导体材料有硅锗砷化镓等硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种 生活中所有的物体按照导电性大致可分为三类导体。

美国荷兰刚刚宣布了光刻机新制裁，中国则强力反制，宣布镓锗两种战略级稀有金属出口管制在这样特殊的时刻，耶伦访华意义非凡 不过与布林肯不同的是，耶伦是学者型官员，在美国是有名的经济学者，所以比起布林肯等美国其他职业政客，她相对务。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬。

中国造不出芯片的原因如下1没有高端光刻机光刻机是造芯片的核心设备，芯片的性能是由光刻机的精度决定的2人才缺失国家有资金支持出国留学，但不是所有出国留学的均学有所成，有的加入了外国国籍3国外芯片技术。