28说明了在氧化层上刻出图形的过程步在wafer上生长一薄层氧化物接下来，滴光刻胶到旋转的wafer上用烘焙炉去除溶液并使光刻胶变硬光刻曝光后，用溶液洗掉曝光区域的光刻胶...