目前我国芯片不仅是制造工艺还是芯片量产都相对落后，目前芯片华为已经制造出5纳米芯片，我国别的公司还没达到这个程度，大部分停留在14纳米美日韩已经突破2～3纳米，甚至向1纳米突破 2光刻机 我国的光刻机达到了14纳米的量产，有的国家4纳米3纳米甚至2纳米都要开始量产了，我们还是有一定的差距呀！ 3光刻；但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后一如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺。

是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付尽管国产光刻机仍。

smee光刻机22纳米光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所；参考资料来源百度百科ABM百度百科佳能百度百科尼康百度百科上海微电子装备有限公司补充信息上海微电子装备有限公司的股票简称华微电子，股票代码是芯原微电子股份有限公司是一家提供芯片定制服务和半导体IP授权服务的企业上海微电子的90纳米光刻机已被华虹半导体长江存储等公司采用；1 中电科电子装备集团有限公司这是国内最大的纳米压印光刻机制造商，其产品广泛应用于半导体制造领域2 上海新阳科技股份有限公司该公司是一家在光刻胶配套材料领域有深厚积累的公司，其产品包括纳米压印光刻胶等3 至纯科技这家公司是一家在精密制造领域有着丰富经验的公司，提供纳米压印；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺1972年，武汉无线电元件三厂编写光刻掩模版的制造1977年，我国最早的光刻机GK3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机1978年，1445所在GK3的基础上开发了GK4，但还是没有摆脱接触式光刻机1980年，清华大学研制第四代分步式投影；目前已经商用的最先进机型是Twinscan NXT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路 目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家ASML， 尼康Nikon，佳能Canon 根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额而最高端市场例如沉浸式光刻机，ASML大约目前占据80。

简单来说，光刻机就是通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有51的，也有41的然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图即芯片为了保证微纳米尺度下的加工，光刻。