中芯国际的28纳米工艺已实现量产，14纳米工艺的研发也已接近完成，显示了中国在制造技术上的突破在关键装备材料领域，中微和上微凭借其在刻蚀机光刻机等战略产品上的研发，已经达到了或接近国际先进水平，这为提升整个行业的竞争力提供了强有力的技术支持总的来说，上海在芯片设计和制造能力上取得；综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米45纳米28纳米的手机芯片这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年2021年正式交付使用28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米14纳米。

smee光刻机28纳米据媒体报道，上海微电子装备SMEE股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距光刻机是一个由几万；中芯国际最好的光刻机是28纳米光刻机中芯国际是中国领先的半导体制造公司之一，其光刻机技术处于行业领先地位28纳米光刻机是中芯国际目前最先进的光刻机，可以制造出高质量的28纳米芯片28纳米光刻机的精度非常高，可以制造出高精度的芯片，满足各种高端产品的需求28纳米光刻机的生产效率非常高。

最关键的是，台积电没有国外的技术限制，可以随时买到ASML最先进的EUV光刻机，而大陆半导体用的还是落后DUV光刻机，而且，制造国内光刻机的上海微电子目前能批量制造28纳米制程的技术还没有完全成熟因此可以说，半导体制造属于投入大，工序长，而且几乎是一环套一环，每个环节几乎都是世界最尖端的技术；随后，该博主发布另外一则信息，主要表示28纳米芯片量产并不是事实中国芯片生产任重道远，受芯片规则影响虽然大部分网友认为国际芯片行业正在进入稳定发展中，可是，我国多家公司却很难具备生产芯片的能力一方面是因为多家公司无法获得高端光刻机，很难实现芯片生产和量产另外一方面是因为相关国家制定的。

综合市场表现概念的关联度等条件，证券时报·数据宝筛选出光刻机光刻胶概念股名单，如下#x00A0#x00A0#x00A0 2 芯片 低速的光芯片和电芯片已实现国产，但高速的仍全部依赖进口 国外最先进芯片量产精度为10纳米，我国只有28纳米，差距两代 据报道，在计算机系统通用电子系统通信设备内存设备和显示及视频系统中。

上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有147532，甚至是1nm但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程。