光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形就像你不能用拖把书写痕迹粗大...

1、现在ASMLEUV光刻机使用的是波长135nm的极紫外光光源EUV极紫外光刻机使用的135纳米光源是通过一种称为极紫外辐射EUV radiation的技术来实现的EU...

1、波兰不生产光刻机，生产光刻机的是荷兰全球唯一能制造高端euv光刻机的是荷兰阿斯麦尔公司，euv光刻机是采用135纳米极紫外光光源，为第五代光刻机，与第四代光刻机光源的...