可以生产9nm的芯片22nm光刻机最高能生产7nm的芯片22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片最先利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。

中国22nm光刻机最新进展

该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片 中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片。

光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平。

二十大米国产光刻机上海微电子国产化了据查询，上海微电子有限公司在紫外光源的帮助之下，成功实现了22nm的突破，推动了国产光刻机的发展，向前迈进了一大步一旦技术成熟，意味着22nm光刻机将在中国问世，这将推动国产芯片。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机海力士也是ASML的股东之一第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备。

中国28nm光刻机2021年上线测试

目前上海微电子装备有限公司能量产的光刻机是65nm制程2019年，由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，最高线宽分辨力达到22nm这22nm制程。

22nm光刻工艺2018年11月，中科院光电所经过7年研发，成功验收了“超分辨光刻装备项目”据悉，这是世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，能够实现22nm光刻工艺而上海微电子2016年实现90nm光刻机突破，并持续向65nm。

不但如此，上海微电子企业也带来了喜讯，他们也成功地提升了22nm的光刻机技术虽然技术上，与欧美国家等国仍有很大的差别，但针对中国半导体领域之中，确是一次很大的提升，我们与发达国家的差别已经逐渐变小，并且现阶段我们。

技术储备有了，但是实现技术也是个难题，中国目前没有极紫外光刻机，哪怕技术有了储备，也要等制造设备到位，这是个漫长的过程中科院攻克2nm芯片关键技术这件事是真的不过不用过于高兴，因为该技术只是制造芯片众多环节。