1、1977年，我国第一台光刻机诞生，加工晶片直径为75毫米今天，国产光刻机制造商有上海微电子中科院光电所等，最先进的设备推进至22nm节点，而国际最先进工艺已突破5nm...

可以生产9nm的芯片22nm光刻机最高能生产7nm的芯片22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片最先利用duv光刻机制造出7nm芯片...