1、1977年，我国第一台光刻机诞生，加工晶片直径为75毫米今天，国产光刻机制造商有上海微电子中科院光电所等，最先进的设备推进至22nm节点，而国际最先进工艺已突破5nm节点国产光刻机无疑还有很长的路要走 芯片是“中国制造”的痛点。

2、为什么日本不担心芯片和光刻机的问题？因为日本自己可以制造，其次，没有对美国构成威胁 事实上，目前全球可以制造光刻机的国家只有三个荷兰中国和日本 荷兰ASML是全球最大的光刻机厂商，在EUV光刻机领域处于垄断地位ASML一台EUV光。

3、除了上海微电子之外，未来我国还有可能诞生一家更加厉害的光刻机企业，因为目前中科院光电所已经研究出了光刻深度达到22nm级的技术，在经过曝光技术升级后可以应用制造10nm级芯片，关键是使用这一技术的光刻设备成本仅为国外同类。

4、但是谁也无法保障，华为这样靠国人撑国货的思路，能不能撑到芯片水准走上尖端的那一天很多人提出疑惑，是不是因为造不出光刻机，所以我们造不出顶级的芯片1 中国真实的处境 实际上，这样的说法存在一定的偏差，但是。

5、2018年，美国要求ASML停止向中国出售光刻机，因此中国芯片企业开始发出声音，要求ASML承担损失由于美国拥有对ASML的技术掌控和影响力，这一限制措施令ASML不得不停止向中国出售光刻机，并且无法为中国市场提供充分的服务保障。

6、在众多技术难关中有很多关卡，即便是解决了其中一部分，也没有办法将所有的东西拆解开来，与其自己研究，还不如通过商业合作的方式，使用其中某项功能，因此中国的光刻机研究，迟迟没有真正的实现技术突破世界的光刻机水平。

7、目前中国的光刻机领域还处于初步发展阶段，上海微电子已经能够实现90nm光刻机量产但是90nm之后，还有65nm45nm32nm22nm14nm10nm7nm5nm，这些节点技术一步一个坎，有些坎几年都未必能更新出一代万里长征才。

8、目前上海微电子装备有限公司能量产的光刻机是65nm制程2019年，由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，最高线宽分辨力达到22nm这22nm制程。

9、然而，在美国的压力下，荷兰没有签发出口给中国的许可证因此，与阿斯麦的合作交易也只能就此作罢现在中国的光刻机技术最先进的应该是28纳米左右的水平现在中国的光刻机技术最先进的应该是28纳米左右的水平不得不承认。