光刻机利用发出的光，通过一个带有电子电路图案的掩模，对涂有光刻胶的硅片进行曝光这种曝光过程会让光刻胶的某些部分发生化学变化，这些变化的部分能够定义电路图案，将其转移到硅片上，从而实现电子电路的功能这一过程；国内唯一一台7nm光刻机位于武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备仅能实现14nm芯片量产我国最先进的光刻机并非中芯国际所使用的设备，而是武汉弘芯在2019年12月购得的7nm光刻机，当时还举行了盛大的入场仪式光刻；我国光刻机发展还是不错的2020年，“就算给你完整图纸，你也造不出来光刻机”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远；中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努；国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；日本代表的企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子虽然我国目前只能制造出90纳米的光刻机，但是我国已经加大了科研投入和人才培养，相信在不久的将来，就能制造出属于自己的光刻机二光刻机的难度在哪里1光源。

华为有46台光刻机作为半导体产业的关键装备之一，光刻机在芯片制造中扮演着重要而不可或缺的角色近日出现了一项引人注目的变化，我国推出了46台高端国产光刻机，这标志着我国在该领域取得了重要突破目前，华为已经投入；我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。