光刻机利用发出的光，通过一个带有电子电路图案的掩模，对涂有光刻胶的硅片进行曝光这种曝光过程会让光刻胶的某些部分发生化学变化，这些变化的部分能够定义电路图案，将其转移到硅片...

我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光...