新一代光刻机相比之前的设备肯定各方面都会更先进，关于新一代EUV光刻机的性能参数，阿斯麦公司并未透露太多，阿斯麦公司制造新一代光刻机肯定会在制造的良率工艺水平等方面都会有很大提升和进步，因为性能和各方面都更。

ASML虽然是一家荷兰的公司，但是出口光刻机受到西方国家的严格控制，ASML的大股东包括美国因特尔台湾积体电路制造台积电韩国的三星荷兰皇家飞利浦电子公司等等，其中因特尔占有股份大约为15%，台积电大约5%ASML的股份。

国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程，两者之间的差距相当巨大那么。

其实说咱们中国没有制造光刻机的能力是不准确的咱们国家的上海微电子装备厂商就拥有制造光刻机的能力但是受制于技术的局限，他们制造的光刻机是没有办法满足高端芯片5纳米工艺的需要的，只是属于单一功能的终端产品不过。

中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己。