光刻掩膜版的立体切片示意图 第二步晶圆覆膜准备 从砂子到硅碇再到晶圆的制作过程点此查阅，这里不再赘述将准备好的晶圆Wafer扔进光刻机之前，一般通过高温加热方式使其表面产生氧化膜，如使用二氧化硅覆化作为光；他自己虽然不能主动地进行思考，但是它可以根据你的指令作出正式的反应，光刻机的发展最早的时候还没有那么难，但是随着进度的不断提升，现在到了5纳米这个级别的我们根本就做不出来，国内就是说现在最先进的就是14左右的。

光刻机是芯片制程中的关键工艺设备，这顶尖设备由尼康佳能等技术领先，特别是荷兰ASML公司几乎垄断高端市场，且受美国影响，不出口中国，成了我国芯片制造工艺技术的卡脖子设备我国上海微电子公司也制造中国低端光刻机图为；光刻机是一种用于微电子和半导体工艺中的关键设备它主要用于将电子器件的图形图案转移到半导体材料或薄膜上，以制造集成电路IC和其他微纳米器件光刻机的工作原理是将光源通过光学系统聚焦成一束细小的光束，然后通过。

光刻机图片高清荷兰

ASML在光刻机领域如雷贯耳，占有大部分的光刻机市场目前大部分的半导体厂商都离不开ASML的光刻机，比如英特尔三星海力士中芯国际台积电等等光刻机是推动摩尔定律的最关键设备，可以说ASML生产的高端光刻机推动着。

量产后，一台7纳米光刻机每小时可加工250张12英寸晶圆接近最大产能，按24小时开工计算，一天可加工6千张晶圆，一个月按三十天计算可加工18万张晶圆如果制造面积较小的手机SOC芯片SOC芯片有多小可以参见下图。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制。

光刻机用于制造微小结构的设备光刻机会将一个图像投影到硅片上，然后使用化学反应将图像转化为硅片上的实体结构当光线经过透镜组时，透镜组可以将光线聚焦到硅片上的一个点，这样就可以使得光刻机投影到硅片上的图像变得。

网传比亚迪要取代富士康，请问比亚迪能造7nm的芯片，能买到7nm的光刻机吗在代工领域，比亚迪虽然也是强大，但确实是无法与富士康相提并论或者是取代但在芯片设计制造领域，这两家目前都算不上特别强，也谈不上谁取代谁的。

光刻机图片 原理

光刻机的原理就像洗照片，但洗照片的人知道在光源和相纸之间放底片，聚焦曝光光刻机也是同样的原理，但相纸是光致抗蚀剂 使用的光源不是普通光源，而是精度要求非常高的光源，是高端步进机中制造工艺最高尖锐的部件。