目前可以实现7nm 制程的只有台积电和三星两家，三星是从一开始就使用EUV光刻机来实现，而台积电则是从DUV开始实现，然后再转向EUV 也就是说，目前7nm 制程工艺使用...

光刻掩膜版的立体切片示意图 第二步晶圆覆膜准备 从砂子到硅碇再到晶圆的制作过程点此查阅，这里不再赘述将准备好的晶圆Wafer扔进光刻机之前，一般通过高温加热方式使其表面产...