荷兰有一家公司ASML，它是全球做光刻机最好的国家，这个根本不用质疑，这家公司拥有强大的科研实力，碾压了美国英国等等貌似芯片软件实力极强的国家而且这家公司非常精准的抓住了光刻机技术发展的转折点，旗下的利用光源；采用技术不同刻印方式不同等采用技术不同激光直写光刻机采用激光技术刻印，而芯片光刻机采用金属仪器刻印刻印方式不同激光直写光刻机是采用激光刻印方式直接刻印，而芯片光刻机是先刻印到芯片上后再转印到需要刻印。

它能够实现微米级别的精度调节，通过一系列复杂的运动机构和控制系统，确保掩模版和硅片之间的相对位置高精度地重复和匹配finestage装置通常作为光刻机的一部分，与其他光刻机部件如激光光源物镜系统工作台系统等协同工作。

光刻机属于光电测控仪器 光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光电测控仪器常见的有光。

光刻机重达200吨，是目前世界上最精密的机器之一，单台售价就高达15亿美元曾今中国的某公司就向荷兰ASML公司预定了一台极紫外光刻机，但至今也没有成功交付，这其中包括需要通过美国授权的专利技术，光刻机的激光光源；它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等分辨率是对光刻工艺加工可以达到的。