中微公司从未发布上述信息，也从未授权任何媒体机构和个人刊发转载此报道该报道曲解了中微在3月11日CCTV2中国财经报道节目中的采访内容，节目中提到中微公司的某个机台正在测试5纳米工艺在采访报道中，中微董事；时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微；目前，国内仅有中科院的龙芯和总参谋部的申威拥有自主架构，前者用于北斗导航，后者用于神威超级计算机，民用领域基本是空白2设备和材料是又一大短板制造芯片的三大设备光刻机蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质；制造芯片的三大设备光刻机蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏，其7纳米设备已入围台积电名单 北方华创在氧化炉和薄膜沉积设备上成绩不俗，但基本还处于28纳米级别其他设备，如离子注入机抛光机和清洗机；中微半导体公司成功研制了5纳米等离子蚀刻机经过三年的发展，中微公司5纳米蚀刻机的制造技术更加成熟该设备已交付台积电投入使用 上海微电子已经成功研发出我国首款28纳米光刻机设备，预计将在2021年交付使用，实现了光刻机技术从无到。

2004年，他创办了中微半导体公司，让中国突破了刻蚀机的技术垄断奠定了我国自主生产芯片的技术，如今，中微半导体公司生产的刻蚀机在米粒上刻一亿个字到十亿个字的突破，而尹志尧对祖国的贡献还在继续。

靶材的江丰电子光刻机领域的上海微电子薄膜沉积设备的北方华创等离子刻蚀的中微半导体单晶硅生长炉的晶盛机电以及自动清洗设备的盛美半导体等等封测领域国内落后不太多，主要的上市公司是长川 科技 长电 科技 杨杰。

招股书披露，拓荆 科技 成立于2010年，主要从事高端半导体专用设备的研发生产销售和技术服务该公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备拓荆 科技 是国内唯一一家能够产业化应用离子体；5nm高端刻蚀机刻蚀机在精密定位和环境控制等技术方面的要求较低，其技术要求和门槛也比光刻机更低不过它们皆为芯片制造环节中的重要设备，它们的发展无疑是我国半导体产业国产化水平的重要指标之一中微半导体生产的5nm蚀。