1、5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术；但即便是中国最先进的光刻机厂商，也仅仅是能90nm的光刻机而这个牛逼的阿斯麦ASML公司，已经可以生产7nm，甚至是5nm的EUV光刻机了，差距真不是一代两代 1ASML的成立 在阿斯麦诞生之前，光刻机领域是索尼的天下因为光刻机所；台海网10月27日讯 据厦门日报报道 最近，“芯片”“IC”“光刻机”“三代半”等成为热门话题，在股票市场上，第三代半导体概念股也成为股市的热点因此，我们有必要了解什么是第三代半导体第三代半导体有哪些用途对。

2、要知道从最开始手机的电池就是2000毫安左右，10年过去了才进步这么点，真的难以想象其实这两者之间是有区别的，cpu的核心就是光刻机的工艺进步，其中现在主流的cpu都是7nm的制程，这个数字越小，cpu的能力就越强大在。

3、传统派就是第一代光刻机，新派就是在第一代光刻机基础上又更新技术的第二代光刻机，那些反对新派的人，真的不明智，那是阻碍八字预测学的发展，任何技术，都是要通过学者不断更新才会提高进一步的准确率的，老祖宗留下；90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm；在关键设备领域，12英寸光刻机大角度离子注入机离子刻蚀机等重大技术装备在“十一五”期间取得重要突破，部分设备已在生产线上运行，夯实了产业发展基础 伴随技术水平的提高，我国本土集成电路企业设计的产品种类不断丰富，产品类型由低。

4、这样一来，制作原理就完全不同了，自然要绕过光刻机的局限如果未来世界各地都使用光量子芯片，那么我们的研究人员将不再需要研究覆盆子的 7 纳米和 5 纳米技术 就连芯片领域也将直接进入新时代，光刻机将直接从稀有而不可或缺的物件；富士康自身也没有这个能力研发光刻机，富士康只是一个代工厂，自己并不算 科技 公司，富士康完全不具备研发光刻机的能力，更不用说7纳米级别的了，全世界只有荷兰一家，而且这家公司并不是自身能力，而是跟几十个国家的顶级 科技 公司合作。