而要想拥有这个光刻机技术是非常难的，当前它是属于全球中最；下一代 12 纳米芯片技术也将实现，一旦实现能耗，将比 14 纳米降低 20%，性能将提高 10%目前，荷兰光刻机已经正常提供给我们，毫无疑问，这是一个明智的选择，这将是双方的双赢局面我们在这一领域的投资也超过了 1。

一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以；用于光刻机的固态深紫外光源也在研发，我国的光刻机研发是并行研发的，22纳米光刻机用到的技术也在研发，用在45纳米的升级上面在交期方面，所有客户也都完全一致，从下单到正式交货，均为21个月。

我国光刻机技术水平

所以我们需要更加高端的光刻机，现在我国有的应该是在14纳米左右这个光刻机不足以满足日常的使用，你现在所使用的天级1200，骁龙865，甚至说骁龙888，它基本都是5纳米6纳米7纳米这样一个程度的，所以我们还有很大的差距，我。

这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快国产光刻机突破。

而如果没有光刻机的话，就完全没有办法造出符合条件的高端芯片其实理由也很简单，就一条，因为关键技术太难掌握造不出来，之前有过这么一句话，是评价光刻机的，他说，以我国目前的技术水平来说，我们造的出各种新式。

我国光刻机技术瓶颈

答案是否定的，要知道华为缺芯是美国的阻碍，国内公司更不可能轻易买到高端光刻机自己制造芯虽然ASML也是通过采购世界各地的优秀零件来补上最终的光刻机，但是没有任何零件可以避开美国的核心技术，所以美国不会为了控制中国的。