光刻机是半导体产业的关键设备，其中是EUV extra 超高特殊紫外线是先进尖端等级用於10奈米以下DUV deeper 深度紫外线较为中阶约20100奈米，区别非常大。

虽然看起来光刻机的技术并不复杂，但因为性质特殊，对精度要求极高，其中所蕴含的 科技 水平之高，在世界范围内也仅有数家公司能够制造 光刻机分为两种，分别是DUV光刻机和EUV光刻机其中DUV代表着深紫外线，而EUV代表着极深紫外线。

而我们人类的头发丝直径大约是50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径15000的线条前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了。

光刻机在国内市场已经占据了很大的份额，这是国产光刻机取得的进步但在代表光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微封装可以生产90nm工艺的光刻机，这是国内光刻机的最高水平，而ASML现在已经量产了7nm工艺的EUV光刻。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

拥有超过100，000个组件，这样的EUV光刻系统是有史以来最复杂的机器之一它由连续生产的最强大的激光系统泵送总重量为180吨，耗电量超过1兆瓦，单台EUV光刻机的售价高达12亿美元 在EUV光刻技术之前，DUV大行其道然而随着工艺技术的。

DUV光刻机实现7nm制程理论上193nm光刻机是可以实现7nm节点工艺制程的，但是会使得需要的光罩数量非常多，工艺复杂，量产难度大应当指出，即使导入EUV，也并不是所有流程均由EUV承担，主要是应用在MOS器件关键层，其它对。

还有清华大学也在高端EUV光刻机光源取得进步种种迹象都表明，国产芯片正飞速发展 本文核心数据人工智能产业链结构人工智能企业层次分布人工智能企业核心技术分布中国人工智能芯片市场规模等 人工智能产业链包括三层基础层技术。

EUV光刻机全被其他国家和地区的厂商给买走了包括台积电三星英特尔海力士我们中国的中芯国际还是没有拿到2018年就下了订单的那台，5年了还是没有从ASML公司那里买走我们中国现在不仅需要大量使用DUV光刻机今年。

按照光源的发展轨迹，光刻机从最初的紫外光源UV发展到深紫外光DUV，再到如今的极紫外光EUV，三者最大的不同在于波长，波长越短，曝光的特征尺寸就越小 资料源自上海微电子官网东兴证券研究所，OFweek电子工程网制图 最早的。