ASML，全球领先的光刻机制造商，正在研制一款新的高NA EUV光刻机，可能将成为最后一代这款新机器将具有055 NA高 NA的透镜，分辨率达8nm，旨在尽可能避免在3 nm及以上节点中的双重或多重曝光此外，ASML还在。

荷兰ASML公司据说开发了1纳米芯片掩模对准器台湾的TSMC和韩国的三星集团争相购买谁拥有了设备，谁就能生产出最先进的产品，谁就能占领世界高端芯片市场，就会有大把的钱可赚，都要抢着买据说这样一台光刻机设备要花30。

新一代光刻机相比之前的设备肯定各方面都会更先进，关于新一代EUV光刻机的性能参数，阿斯麦公司并未透露太多，阿斯麦公司制造新一代光刻机肯定会在制造的良率工艺水平等方面都会有很大提升和进步，因为性能和各方面都更。

我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。

光刻胶的表面层是光致抗蚀剂，光敏材料将在曝光后降解 “蚀刻”是实际上沿着光致抗蚀剂的表面显影以在晶片上雕刻电路图的图案半导体芯片设备蚀刻机在芯片制造领域处于国内替代的最前沿有三个核心环节，分别是薄膜沉积。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

这条道路是很漫长的，我们要从一穷二白开始做起不过我们中国人从来都不怕困难，只要我们不断的努力，那么终究有一天我们也能够打破技术的瓶颈，制造出我们自己的光刻机，甚至比外国人更先进那时候我们就再也不会担心别人。