在ASML公布的今年一季度财报中，EXE5200已经订出去不止一台按计划，第一台原型试做机2023年开放，预计由imec比利时微电子研究中心装机，2025年后量产，第一台预计交付Intel实际上，ASML的EUV光刻机非常庞大，现售的0。

节点试图采用CEFT结构，1纳米10_以下计划采用原子形状的沟道，依赖Mo钼W钨X为硫Se硒Te碲等2D材料和HighNA高数值孔径EUV光刻机来实现说到HighNAEUV光刻机055NA，一号原型机EXE5000。