二光刻机和芯片哪个更难都很难的因为芯片从设计到生产制造都是一个复杂工艺，目前国内，芯片设计软件和生产核心光刻机都是国外的不过光刻机难度最大，因为再好的设计也需要做出来才能算成功，而且还要保持良品率以；光刻机的制造难度光刻机制造难度之大可以用荷兰ASML公司的一句话来表示，对方表示就算把光刻机的图纸拿出来，我们也制造不出光刻机且不说对方是不是小看了中国制造，从侧面也反映出了光刻机的制作难度之大因为现在还。

光刻机最难的技术瓶颈就是电能转换效率模块精密度准确的光斑扫描和处理等 1电能转换效率由于光刻机是一种高精度的机器，它要求高精度的空间分辨率，机器的精度可以达到几微米，而光刻机的电子系统要求高效率的电能转换，因此要求；虽然我国目前只能制造出90纳米的光刻机，但是我国已经加大了科研投入和人才培养，相信在不久的将来，就能制造出属于自己的光刻机二光刻机的难度在哪里1光源问题光刻机以光为媒介，刻画微纳于方寸之间，实现各种微米。

制造光刻机的难度大吗

造光刻机难的原因有1西方国家的技术封锁在光刻机领域，荷兰是最有发言权的，我国很早以前就跟他们取得联系，并且希望进行相关合作，若是双方进行合作的话，很容易就能解决技术问题，可是美国却总是从中作梗，要求荷兰。

为什么制造难度这么高我们先了解下什么是光刻机，光刻机，这台可以卖到上亿欧元的精密设备，是通过紫外光作为“画笔”，把预先设计好的芯片电子线路书写到硅晶圆旋涂的光刻胶上，精度能达到头发丝的千分之一这看起来。

1制造光刻机通常需要更多的材料和技术，对供应链和生产流程的要求也更高，在制造光刻机的过程中，需要掌握比芯片更多的技术领域，例如机械制造光学设计精密加工等，此外，光刻机的工作环境也更为复杂，需要保持洁净的。

目前光刻机的精度几乎接近原子的直径01纳米，光刻机每移动1厘米，控制纳米精度，相当于上千公里范围内控制一个银针，可见难度之大光刻机光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造。

制造光刻机的难度有多大

光刻机很难生产的，这个东西对我们来说是一个技术难关，或者说技术壁垒，我们没有这样的技术，就算有精度也不够不能达到现在实际生产需要的这个要求，这东西真正生产出来不是靠一家厂商可以搞定的一台真正高端的光刻机。

光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯片的制造，因此需要达到极高的精度要求例如ASML公司的最新款光刻机能够实现高达13纳米的精度，相当于人类头发丝直径的190研发成本巨大光刻机的研发成本非常高，需要投入。