在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机技术进步明显但是与国外的水平相比，仍有一定差距。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息。