而光刻技术可以将设计好的图案转移到半导体材料上，从而形成这些器件的结构3光刻机还在光电器件制造领域中得到广泛应用例如，液晶显示器LCD有机发光二极管OLED等都需要使用光刻技术来制造像素点或电极结构；光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所。

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1大族激光0020082020年6月17日公司在互动平台称公司在研光刻机项目分辨率3 5μm，主要聚焦在分立器件LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售 2张江高科公司在互动平台表示，上海张江浩成。

我们也许不知道接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于01 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为05 gm左右接触式光刻机的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形在衬底上涂上光刻胶，并被安装到一个由手动控制。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

但是，随着国内技术的不断进步和政策支持的加强，光刻机国产化发展前景逐渐明朗目前，国内已经有一批企业开始进军光刻机领域，包括上海微电子华光光电晶合集成等这些企业已经在一些特定领域取得了突破性进展，例如华光光电。

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1、光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机。

2、成功自主研发出用于芯片生产的光刻机，并在自身的基因测序业务中得到了成功3星辉光电星瞳科技华微电子等国内一些企业，也在加大研发投入，努力追赶国际领先水平，同时在市场上拓展业务，争取更多市场份额。

3、研究光刻机应该学光电，或者应用物理传统光学方向都可以光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位先进光刻机荷兰ASML。