1、但是华为会加强与国内专业芯片供应链的合作，比如与中芯国际上海微电子合作，派驻研发人员一起来攻克光刻机的难关相信在国内企业的共同努力下，未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的而到了14nm这个；将其运用到声学滤波器光电调制器等光电芯片制备以及光计算通讯等领域时可以让这些行业拥有较强的发展，也能够让我国在各个领域通过对这项技术的运用超越世界各国，成为该项技术的领先国家此外能够在实施光刻胶膜时达到；国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

2、下面来了解下国产光刻机和荷兰光刻机的差距一光刻机中国能造吗可以目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司SMEE，它可以做到最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平。

3、另外， 目前中科院已把光刻机航空轮胎和轴承钢等对外依赖度较大的关键材料或设备列入科研清单，未来将致力于攻克这些重点领域的技术 同时国家对国产操作系统也更加重视，并在去年定下了quot中国芯片自给率要在2025年达到70%；国内的光刻机单从技术层面已经进入28nm节点，甚至上海微等已经有更领先的方案，不过目前顶尖光刻机都在asml，光刻机在量产应用，摊开成本取得用户信任的路上收到的阻碍太多了，每次有突破，对应的光刻就会被阿斯麦等降价打击；90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm。

4、第一，上海微电子宣布将在2021年，下线28nm制程的光刻机虽然比ASML光刻机制程要落后，但在民用，军用领域大多数场景足够了龙芯总设计师胡伟武在接受采访中谈道 所以，要相信我们的国家，我们虽然在某些领域还有些差距。