光刻机是干什么用的光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的光刻机还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大；从制程范围方面来谈duv基本上只能做到25nm，凭借双工作台的模式做到了10nm，却无法达到10nm以下euv能满足10nm以下的晶圆权制造，并且还可以向5nm3nm继续延伸duv主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜。

这个过程是芯片制造中最为复杂和精细的环节之一根据不同的制造工艺和应用场景，光刻机可以分为多种类型，包括接触式光刻机接近式光刻机扫描投影光刻机等等光刻机的重要性 光刻机在芯片制造中扮演着至关重要的角色。

步进扫描光刻机属于投影式光刻机

光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位先进光刻机荷兰ASML一家独大，在中国的研发也比较少上海和深圳有，但偏重软件方向。

这种设计可以减少投影系统光学元件的数目，控制像差和热效应，实现135NA图2a是一种浸没式光刻机投影光路的示意图如果投影光路中添加了奇数个反射元件，那么投影在晶圆表面的像与掩模版上的图像是反对称的只是添加。

投影式光刻机图片

1、国家应组织力量以充足的投资，选准方向，加强与国际的合作，开展以瞄准可用于01013微米光刻的193纳米准分子雷射投影光刻机为重点的专用设备中的关键技术研究并达到实用化同时开展电子束和X射线光刻等新一代光刻机等关键设备的技术攻关。

2、光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

3、一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作投影式曝光机的优点是提高了分辨率，掩膜板的制作更加容易，掩膜板上的缺陷影响减小以上内容参考百度百科光刻机。

4、所以与光源光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。