但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今都没能突破尖端技术那么，研制光刻机的难度在哪里一光刻机哪个国家能造光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧；随着现在科技的不断发展，人们在日常生活中的方方面面都已经有了很高的要求，而且人们对高科技的使用也变的越来越多了最近比较许多人都在讨论光刻机这一项高科技，但是光刻机这一项技术在我国又恰恰是处于弱势的，因为我国。

所以我个人认为，现在研发出8nm光刻机的可能性存在，但是这么快还是让人惊讶，或者对我来说说可信度似乎较低不过，据说中芯国际承担国产芯片需要的设备和材料等等的验证如果现在8nm光刻机真出来了，不出意外应该还是中芯国际担任验证工；可能完成了所有的EUV光刻技术研发工作，短时间内也可能无法造出国产EUV光刻机，因为光刻胶，还有其他的核心技术还没有突破；90纳米美国拉拢日本和荷兰组建所谓的封锁联盟，连用于成熟工艺的DUV光刻机也试图不卖给中国芯片，阻止中国芯片的发展，上海昆山的同兴达科技有两台国产光刻机入驻生产线，由上海微电子自主研发90纳米光刻机昆山同兴达芯片封测。

国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程，两者之间的差距相当；第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主位于我国上海的上海微电子装备集团股份有限公司SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成。