中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证但是光刻机就差多了，之前新闻。

蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机具体如下1工作原理 如果把制造芯片比。

但是，我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态，很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺而蚀刻机在我国却是特别先进，用于下一代新高端工艺芯片生产，也是绰绰有余据了解，中微半导体的所自研的高精度蚀刻机已达到5nm。

刻蚀相对光刻要容易光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者没有图案的部分，留下剩余的部分“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆或者叫硅片上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻。

别把这个问题想得那么简单，因为只有用于芯片的光刻机和蚀刻机芯片制造的技术经验技术和人才是一项系统工程台积电不是一天建成的有了光刻机，我们就不能制造顶级芯片再退一步讲如果一流光刻机和刻蚀机都国产。