光刻机的英文是Stepper 1介绍 光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备光刻，也被称为光学平版刻法或紫外光刻，是一种在薄膜或基板也被称为“晶圆”上对零件图形化的精密加工工艺。

1光路系统不同DUV光路主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm而干法光刻机则不会如此，其介质为空气而EUV光刻机则是利用的光的反射原理。

光刻机品牌介绍 光刻机国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主其中荷兰公司ASML为下一代EUV光刻系列的唯一供应商，在半导体价值链中具有强大地位。