1光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上2生产集成电路的简要步骤利用模版去除晶圆。

刻机是用来制造芯片的光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备光刻机是干什么用的 光刻机决定了芯片的精密尺寸。

据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远也就是说中科院研制的这种光刻机不能像一些网媒说的用来光刻CPU它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率。

光刻机MaskAligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀等工序光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动。

理论上当然可以，但是目前这样的系统还没有发明出来从理论到实现，到批量投产，有相当长的研发时间。

1测量台曝光台是承载硅片的工作台2激光器也就是光源，光刻机核心设备之一3光束矫正器矫正光束入射方向，让激光束尽量平行4能量控制器控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像。

摘要光刻机顾名思义就是“用光来雕刻的机器”，是芯片产业中宝贵且技术难度最大的机器光刻机的种类有哪些光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，有接触式曝光接近式曝光投影式曝光等光刻机光。

1光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System2一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘。