阿里巴巴旗下半导体公司平头哥发布自研云芯片倚天710，称全部是采用国产光刻机制成的一款5nm制程的芯片所以倚天710处理器用的是国产的光刻机光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

月初一条“中科院5nm激光光刻技术突破”的新闻火了，在很多无良自媒体的口中这则新闻完全变了味，给人的感觉像是中国不久将会拥有自己的5nm光刻机，其实真实情况完全不是一回事下面我们就来谈谈这则新闻真实的内容到底是。

现在中国微电子5nm刻蚀机已开始成为台积电5nm的生产线提供设备支持，这意味着家用半导体设备正在不断改进，而台积电的认可足以证明ChinaMicro半导体的实力，现在刻蚀机取得了重大进展，国产光刻机会远远落后吗相信在许多国内公司。

是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息。

值得一提的是中芯的7nm制程使用的是DUV光刻机深紫外光7nm也是DUV能维持高良率的极限尽管理论上用多重曝光multiplepatterning可以做5nm工艺，但是良率会很低，无法盈利所以台积电的5nm技术节点N5，就。

但是，我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态，很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺而蚀刻机在我国却是特别先进，用于下一代新高端工艺芯片生产，也是绰绰有余据了解，中微半导体的所自研的高精度蚀刻机已达到5nm。

而asml的光刻机已经达到5nm量产的水平因此，目前我国光刻机水平无法动摇其地位若日后我国光刻技术突破，而asml仍旧无法找到更先进制程的方法，那么将会威胁其发展但一般而言这很难说，技术会一直进步下去。

中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标这是荷兰ASML实现的而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的其中，制造光源的设备来自美国公司镜片。

国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。