它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米；大概从2009年开始，中国已经在芯片行业发力，一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已经成功研制 2020年6月，上海微电子设备有限公司透露，将在20212022年交付首台国产28nm工艺浸没式光刻机 这个成果标志着国产光刻机工艺从以前的90nm。

近日，荷兰阿斯麦ASML公司在美国芯片禁令后向上海鼎泰匠芯科技有限公司成功交付首台ASML光刻机，但是这台光刻机的制程属于DUV深紫外光，并不是最先进的EUV极紫外光设备，这一举动引发了广泛热议对于光刻机而言，最核心。

中国首台光刻机是哪个公司生产的

1975年 研制成功我国首台精缩照相机，获国家科技进步一等奖1978年 研制成功我国首台图形发生器1984年 研制成功我国首台分步光刻机，并获得电子工业科技进步一等奖1993年 研制成功我国首台双面光刻机，并获得国家级新产品奖，电。

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

最初光刻机跟世界的差距保守估计也就是47年，结果就陷入了“造不如买”的境地，直到现在，差距保守估计20年以上了看看同期的光刻机，佳能1970年推出日本首台半导体光刻机尼康1980年发售首款半导体光刻机而阿斯麦。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机海力士也是ASML的股东之一第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备。

中国首台光刻机诞生

1、光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平。

2、现在国内已经意识到光刻机相当重要的作用， 中芯国际已经花了将近15亿美元引进ASML高端光刻机，但过去了两年还未能交货 ，因为国外有阻扰要得到这台高端光刻机会经过不少波折，最后也不知道能不能成国内相关的机构也在重点突破光刻机技。

3、很多人都不清楚，蚀刻机的重要性并不低于光刻机，两者皆是生产高端芯片的重点设备但是，我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态，很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺而蚀刻机在我国却是特别先进，用于下一代新高端。