中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证但是光刻机就差多了，之前新闻；第一，光刻机 目前，ASML荷兰Nikon日本尼康Canon日本佳能共同组成了光刻机三巨头目前拥有顶级芯片制造能力的台积电三星等的7nm光刻机基本都来自ASML虽然中国目前可以生产处光刻机，但与三巨头的差距太。

芯片问题对华为以及我国来说，短期内是无法解决的困难国产芯片产业链，不论是芯片架构，代工技术，包括光刻机这种高端设备都做不到完全国产，而芯片设计使用的EDA软件国内虽然也有，但完全无法和美国软件相比，只能用于低端。

苏大维格光刻机

1原因一荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助2原因二ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手。

在国内光刻机的发展还是比较缓慢的，特别是最先进的半导体制程，比如7纳米4纳米，这些国内的光刻机是无法完成的华为是一家专注于自我生产自我研发的企业，很多的芯片也开始慢慢进行自主设计和生产，特别是成立的海思。

目前，国内仅有中科院的龙芯和总参的申威拥有自主架构，前者用于北斗导航，后者用于神威超级计算机，民用领域基本是空白制造芯片的三大设备光刻机蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏，其7纳米设备。

目前还没有任何官方或者小道消息透露出华为在研制自己的光刻机其旗下公司海思只是在研发芯片，芯片的生产是找台积电代工个人认为，华为现在并不具备 答案是现在的计算机没有能力做出有感情的ai人工智能，即类人类的行为。

更重要的是在芯片制作过程中，DVA光刻机是一个很关键的仪器设备，这个设备还没有完全的实现国产但是我国的科研人员也真正努力地研发属于中国自己的DVA光刻机器如果这个机器真正的实现国产了的话，中国芯片就离纯国产更。

海思光刻机研发情况

光刻机设备生产商代表上海微电子 上海微电子是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技企业，目前是我国光刻机的领先企业，能够生产90纳米工艺的光刻机除了上海微电子之外。

但是，芯片的制作光有设计技术也是不够的，更为关键的是制作环节 芯片在制造上需要各种高端设备，这是我国目前所不具备的 高端芯片的制造需要光刻机， 想要制造出高端芯片往往只有两个途径 要么卖光刻机自己做，要么委托代工厂进行制。