1、目前，全球仅ASML一家可生产EUV光刻机不过，我国想要突破光刻机难题极其困难光刻机被成为“现代半导体行业皇冠上的明珠”，具有极高的技术含量，可以说是现代顶尖 科技 的结晶在ASML的背后，有5000家供应商的支撑。

2、光电所SP光学光刻机就是绕开了传统的193纳米曝光的技术路线，利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的分辨率的图形，所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升，是完全具有知识产权的原创性技术我以前了解过，光刻。

3、基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并有可能扩展到更短的波长，为突破大功率EUV光源提供了新的解决方案我国自主研发EUV光刻机还有很长的路要走基于SSMB的EUV光源有望解决自行开发的光刻机中最核心的ldquo卡死。

4、我国待突破的封锁线是第三道，是目前为止的最后一道，即对目前为止属于世界领先水平的高端光刻机技术和产品的封锁现在和在将来的一个时期内，我国企业买不来EUV光刻机产品，我国的光刻机企业更买不来EUV技术，这是由于。

5、现有的EUV光刻机是7纳米的吧，不是已经让台积电以及三星制造出5纳米的芯片了吗近日，有报道说梁孟松已经“宣布进军7纳米芯片”了，这也可信，按时间节点，肯定是要规模量产7纳米芯片，肯定是采用荷兰ASML卖给的DUV 光刻机。

6、大概你不知道lpp也已经第四代了，这已经奔着第五代去了也就不说这台所谓的样机是一个什么状态了最后，在知乎上都是个人立场，至于asml公司，但凡多了解一点就知道它一直寻求与中国合作，川普上台前差点儿把euv光刻机。

7、虽然我们也有国产光刻机，但是就算是 目前做得最好的上海微电子，目前也止步于90nm光刻机 上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机。

8、不过，如今我国的最高学府，清华大学正在深入研究EUV光源问题，研究出的SSMB光源的潜在应用之一，便是作为为EUV光刻机的光源，一旦这一展望能够实现，便意味着我国有望解决自主研发光刻机之中最核心的光源问题 除了在核心问题上取得突破外。

9、可能完成了所有的EUV光刻技术研发工作，短时间内也可能无法造出国产EUV光刻机，因为光刻胶，还有其他的核心技术还没有突破。