1、曝光系统的功能主要有平滑衍射效应实现均匀照明滤光和冷光处理实现强光照明和光强调节等对准系统编辑制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望其项背的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊。

2、在科技发展的道路上总是会遇到许多的困难，中国的科技在快速发展的七十多年之后，仿佛遇到了一个瓶颈期，那就是顶尖的光刻机，光刻机虽然难造，但是也不是神造出来的，而杨振宁曾经表示中国若是解决了这个问题，研制光刻。

3、光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻。

4、光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的所以说，光刻机就是把很大的电路图，通过透镜缩小到芯片那么大，然后用光线侵蚀掉光刻胶，达到自动形成电路的目的 光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就。

5、光刻机的作用光刻机是芯片制造的核心设备之一目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上在。

6、只是目前采用投影或浸入式的技术还难以做到1nm工艺，但其实世界上已有直写技术可以做到1nm了，只是采用直写技术的硅片没有商用价值，只能制作掩膜版用，所以说3nm更不是极限了，那么光刻机的极限在哪里呢接着往下看光刻。

7、上海微电子光刻机在国内是最先进的光刻机研发制造企业，其前道光刻机能够实现90nm制程，在国内市场份额超过80%，并且也销往国外但与国际先机光刻机相比，上海微电子光刻机却处于低端光刻机序列 目前光刻机市场几乎被荷兰ASML日本。

8、3 掩膜版设计在光刻工艺中，掩膜版的设计也会影响图案的精度掩膜版上的图形越细小，光刻后的图案就越精细同时，图形之间的间距也会影响图案的精度4 曝光系统光刻机的曝光系统也会影响加工精度曝光系统中的。

9、中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证但是光刻机就差多了，之前新闻。

10、挑战nm级别的物理极限，就需要使用光做刻刀的专用工具“光刻机”光刻机的原理非常简单，它就是一台大型照相机，紫外光把要雕刻的电路板通过凸透镜打在涂抹了光刻胶的硅晶圆上，将电路印在上面难度在于光刻机必须要把。