中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘芯还举行了重大的入场仪式光刻机。

光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机。

目前，一台光刻机的成本高达上亿美元，而一台光刻机一年的产能最多只有几台，光刻机是目前世界上最尖端的设备技术之一，而一台7纳米的光刻机价格非常昂贵，价格高达12亿美元，甚至12亿美元的光刻机，也是供不应求。

SMEE光刻机研发成功的意义 上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。

光刻机是干什么用的 光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，在通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度。

上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区。

各大Foundry厂和IDM厂在7nm以下的最高端工艺上都会采用EUV光刻机，客户以英特尔台积电三星SK海力士为主ASML在2019年出售了26台极紫外线EUV光刻设备，大概一半供给了台积电。

可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位光刻机，是制造芯片的机器要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机电脑了2光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于。

生产和创造芯片都不是最难的，困难的是对于制造芯片的光刻机的研发工作，不仅仅是我国，很多国家对于这项技术都还没有掌握，但是也不乏有的国家在这方面十分优异，尤其是荷方的ASML公司，很多个国家都从这里进购，那我国的购买占比达到多少。