1、1951年，贝尔研究所发明了结接触晶体管，并实现成功实现商业试用1953年，索尼创始人之一盛田绍夫从西方电器公司买到晶体管专利技术1955年，索尼研制出全球第一台晶体管收音机1959年，日本晶体管销量达到世界第一1968年。

2、intel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

3、因此，在光学技术上有很大优势的日本，在光刻机领域有很大的发言权例如，日本的佳能和尼康是光刻机市场的大玩家，而曾经是荷兰公司的ASML在它们面前则是小角色尼康和佳能也是行业中突出的相机巨头，因为光刻胶和相机的。

4、1因为中国巨大的发展潜力，他们不敢买 2中国缺高端光刻机，如果中国有了高端光刻机，那么中国芯片水平会跳跃式发展，中国的国力会加速增长这是西方国家不愿意看到的 PS不过现在TG下决心补上这些当初落下的短板。

5、据了解，ArF光刻胶可以用在90nm14nm，甚至是7nm芯片制程技术的应用，在高端芯片制造能发挥重要作用如今南大光电突破关键芯片材料，打破日本技术垄断，而且关键性堪比光刻机虽然距离生产高端芯片还有一段路要走，但是每一次。

6、今天要说的光刻机也是我国科学技术上面的一大难题，目前世界上光刻机只有荷兰和日本两个国家研发了出来那么我国现在经济如此强大，为何还研发不出光刻机，是因为光刻机真的研发出来吗，说得对，光刻机的技术难度的确不是。

7、ASML的光刻机被全球众多芯片制造企业所使用，并被认为是最先进的芯片制造技术ASML最新推出的光刻机可实现纳米级别的制造，为全球芯片制造业的快速发展提供了坚实的技术保障尼康是日本制造业的一颗明珠，在光刻机领域也是。

8、第四代为步进式投影式光刻机，采用193nm波长的ArF氟化氩准分子激光光源，可实现制程推进到了65130nm第五代为EUV光刻机，选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源3市场 目前全球光刻机市场被荷兰的ASML，日本的。

9、其中，再分为三个阶段，荷兰的ASML垄断了高端光刻机市场的份额，日本的尼康和佳能位居中端，但同时也在与中端市场竞争，而上海的微电子则是低端光刻机市场其中ASML采用135nm的光源，可以实现7nm的工艺，未来可以实现更小。

10、只要拥有一台EUV光刻机，芯片制造企业就可以研制出更加先进的芯片工艺除了光刻机之外，光刻胶等半导体材料对于芯片的光刻环节发挥了重要作用南大光电公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过认证，打破了日本企业的垄断局面。