清华大学“光刻机双工件台系统样机研发”项目成功通过验收2018年，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备”通过验收，也是世界上首台用紫外光源实现22nm分辨率的光刻机，意义在于用便宜的光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景；半导体设备系列光刻机是半导体工业中的“皇冠”1原理 光刻是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束的作用下发生化学变化，通过后续曝光显影刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术激。

近两年，国内 科技 企业因芯片技术落后数次在市场上陷入困境，致使国家对芯片产业发展越来越重视前段时间， 中科院更是亲自宣布要攻克光刻机项目而近日，中国芯片产业则是频频传出捷报， 先是中芯国际宣布实现N+1工艺芯片；光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备集团股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。

2000质量体系认证并保持良好运行 现已形成以IC关键工艺设备“光刻机”为龙头；佳能光刻机22纳米，光刻机是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片第二是类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光。

1982年，科学院109厂的KHA751光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平。

中国电科45所光刻机

而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机。

电子工业科技进步三等奖1997年 研制成功我国首台超低温阵列探针测试台，获电子工业科技进步二等奖1997年 研制成功我国首台全自动探针测试台2005年 承担的国家重点科研项目“SB601型双面光刻机”通过了设计定型和验收，该设备。