我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。

duv光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米euv激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为135纳米3光路系统不同 duv主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使。

这里就不讨论它的制造过程，那不属于小编的专业领域，只说一些小编了解到的难点根据光刻机的发展历程以及它所采用的光源区别，我们把光刻机依次可分为紫外光源uv深紫外光源duv极紫外光源euv，它们的工作。