2骁龙765G采用了台积电7nm制程工艺，EUV是采用波长135nm的极紫外线光刻技术，可以在SoC硅基上进行更为精密的光刻，实现更小的沟道比主流193nm波长光源，光刻分辨率提升了约33倍让处理器可以集成更多晶体管，或者说相同晶体管数量下；前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer。

极紫外光刻机光源

1、这是光刻的功能，类似于照相机摄影相机拍摄的照片打印在底片上，而照片不被记录，而是电路图和其他电子元件根据网上资料显示，一台光刻机一天大约可以有效制造600块左右，一年就可以制造差不多219万块芯片光刻机为什么。

2、上海微电子装备有限公司上海微电子装备有限公司成立于2002年3月，截止2023年6月9日，是国内唯一能够做光刻机的企业，上海微电已经量产的光刻机中，性能最好的是SSA600200工艺。

3、极紫外光刻EUV使用波长更短的激光135nm，相对于深紫外光刻，需要重新研发刻蚀材料光刻胶刻蚀工艺等等，对精度的要求进一步提高，目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机而且西方国家对我国的技术打压是。

4、是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息。

极紫外光刻机研制究竟有多难

1、EUV光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理投影光刻是集成电路的主流光刻技术，具有效率高无损伤等优点EUV光刻。

2、ASML是一家高科技公司，成立于1984年，其总部位于荷兰 该公司主要致力于生产极紫外光刻机，以及其他半导体制造相关设备ASML的9纳米光刻机通过使用极紫外辐射来创造更准确的图案这种技术可以实现与传统刻蚀技术相比尺寸更小。

3、荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个135。

4、不是上海微电子14纳米光刻机是公司购入的设备，但并不是极紫外光刻机而极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。