前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的但相信。

上海微电子光刻机在国内是最先进的光刻机研发制造企业，其前道光刻机能够实现90nm制程，在国内市场份额超过80%，并且也销往国外但与国际先机光刻机相比，上海微电子光刻机却处于低端光刻机序列 目前光刻机市场几乎被荷兰ASML日本。

市值为1700亿美元近期，上海微电子装备集团股份有限公司下称“上海微电子装备”披露，将在20212022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机国产光刻机从此前的90nm一举突破到28nm，不仅打开了上海微电子装备的。

一台顶尖EUV光刻机的零部件中，美国光源占27%荷兰腔体和英国真空占32%日本材料占27%德国光学系统占14%，它是全世界顶尖技术的结晶目前中国的光刻机领域还处于初步发展阶段，上海微电子已经能够实现90nm光刻机量产。

90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm。

就以光刻机为例，纵然是技术强大如美国，也不能独立制造出光刻机他们也需要从德国日本瑞典等国的手中购买镜头光学器材轴承等材料很多朋友希望我们能够从IC产业链的各个环节都实现替代，从而造出100%国产化的。

虽然我们也有国产光刻机，但是就算是 目前做得最好的上海微电子，目前也止步于90nm光刻机 上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机。

加上原本工业基础的薄弱，才有了现在的这种情况目前市场上我们能够自行生产的光刻机精度只有90纳米级别，中芯国际升级的14纳米技术其实并不是我们自己生产的设备，这个就很尴尬了，虽然说上海微电跟科学院联合研发出来了28。

上海微电子目前已经量产最先进的SSA60020系列光刻机，依旧采用的是193nm ArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额而根据国内官方媒体最新报道。

1原因一荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助2原因二ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手。