如果将芯片制程工艺比作金字塔，塔尖是10nm及以上工艺，14nm及90nm就是塔腰，90nm以下就是塔基说到这里，国产90nm光刻机的战略意义就展现出来了虽然它是低端光刻机，但打破西方技术封锁，可以保证绝大多数国产芯片制造厂。

在芯片制造过程中是离不开光刻机的，光刻机是制造芯片的核心装备，芯片的集成水平取决于光刻机的精度光刻机和芯片哪个更难都很难的，不过光刻机难度最大，目前我国只能自主量产90纳米光刻机，与荷兰的差距还很大。

国产芯片水平只能实现90纳米从芯片制造环节看，光刻机蚀刻机晶圆光刻胶等设备和材料占比很大其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产因此。

日本代表的企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子虽然我国目前只能制造出90纳米的光刻机，但是我国已经加大了科研投入和人才培养，相信在不久的将来，就能制造出属于自己的光刻机二光刻机的难度在哪里1光源。

90纳米光刻机能让中芯国际有价值90纳米发展到1纳米制程也就靠时间的推移慢慢成长5纳米制程再往上非常困难，每低一纳米需要更长时间的研究90纳米发展到7纳米制程比5纳米发展到2纳米要快多了生产力是一方面，高精尖。

公司是长春光机所控股下的唯一上市平台，90纳米光刻机曝光系统是长春光机所联合其他单位在国家专项资金的支持下开展的研发项目公司主导产品为光电经纬仪光机分系统航空航天相机光机分系统K9光学玻璃等公司生产的光电测控仪器设备。

时间应该不会太久，加油自己，加油中国人目前我国能生产光刻机的企业有5家，最先进的是上海微电子装备有限公司，光刻机量产的芯片工艺是90纳米，目前正在向65纳米迈进，而国外最先进的是5纳米，正在向3纳米迈进，这中间。

作为制造强国，我国许多行业对于90nm及以下制程的芯片，有着广泛的需求电视机智能家电功能手机智能机械设备等，都需要用到精度不高芯片这些行业的巨量需求，要求国产90nm光刻机，必须存在唯有这样，才能更好的满足。