1、简单来说，如果日后石墨烯晶圆能够实现大批量生产，与之相匹配的产业链逐步完善我们完全可以避开国外的EUV光刻机，来生产出质量更优性能更高成本更低的芯片毕竟我国是第一个实现8英寸晶圆量产的国家当然，以目前的。

2、根据台媒报道， 台积电将联手日本芯片产业共同冲刺2nm芯片 日本虽然没有先进的晶圆代工厂，但是日本在先进工艺的上游却占有很重要的位置以国内用户最为熟悉的EUV光刻机为例，众所周知，全球只有ASML一家公司拥有生产。

3、第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了12亿美元的定金请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。

4、其中荷兰公司ASML为下一代EUV光刻系列的唯一供应商，在半导体价值链中具有强大地位，2021年前三季度出货31台，其TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型全球绝大多数半导体生产厂商，都向。

5、不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以。

6、euv光刻机是采用135纳米极紫外光光源，为第五代光刻机，与第四代光刻机光源的193纳米深紫外光光源，技术上提升非常巨大，该光刻机可以说是全球尖端技术集大成者波兰这个国家不生产光刻机。