中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。

光刻机国产化前景广阔光刻机是现代半导体制造业的关键设备之一，其技术水平直接影响到半导体产品的质量和性能我国作为全球最大的半导体市场之一，长期以来一直依赖进口光刻机，国产化程度较低但是，随着国内技术的不断进步。