1、光刻胶和光刻机的区别在于用途和功能光刻胶是一种用于半导体制造中的关键材料，它被用于制作微电子器件的图案光刻胶的主要作用是在光刻过程中起到光阻的作用，即通过光照和化学反应来形成微细的图案光刻胶的选择要考。

2、光刻机和光刻胶的区别在于功能和使用方式光刻机是一种用于微电子制造中的关键设备，主要用于将图案投射到硅片上它通过光源透镜系统和控制系统等组件，将光线聚焦并投射到光刻胶上，形成所需的图案光刻机的功能是实。

3、光刻是通过光刻胶把电路印制在基板上1作用不同光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，而光刻机是制造芯片的核心装备2成分不同光刻胶是感光树脂增感剂和溶剂，而光刻机使用特殊光线将集成电路。

4、作用不一样光刻胶和光刻机的区别是作用不一样，光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻胶是用于保护硅片的，光刻机是用来制作芯片的光刻胶是一种有机化合物，光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把。

5、光刻胶的要求比光刻机的要好 光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶简单的说光刻胶是用于保护硅片的。

6、1用途和功能不同光刻胶是一种用于半导体制造中的关键材料，被用于制作微电子器件的图案，而光刻机是一种用于制作微细图案的设备2制造工艺原理不同光刻胶的制造工艺主要是化学合成的方法，需要进行一系列的化学。

7、主要区别在于作用1光刻机的主要作用是对光刻胶进行曝光，将掩膜版上的精细图形印制到硅片上，从而实现电路图的转移和复制2光刻胶的主要作用是在光刻机曝光过程中，通过化学变化实现图形的转移和复制光刻胶的品质。

8、光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面2光刻胶是用于保护硅片的，光刻机是用来制作芯片的，光刻胶的性能指标要求极高，感光的性能抗蚀性表面的张力等。