2020年7月15日  稍微关注一点这块的人，大概都知道现在的光刻机大体上分为DUV和EUVDUV是目前比较成熟的方案，现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源，被广泛应用在7nmN。

2022年1月21日  因意外高中辍学的林凡，在获得能够领先科技一步的系统之后竟仅凭自己一人，就研发出了3纳米级别的光刻机！他不但推动了华国整个工业体系的改革，更是将。