中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努。

上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区。

国内光刻机技术日渐成熟，并且在半导体光电子等领域得到了广泛应用在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机。

根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收”。

全世界只有中国日本荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度目前，荷兰ASML一家公司。

因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。

国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段。

国产光刻机可以达到55纳米目前国产光刻机最先进的设备在分辨率上达到了55nm，由于ArFDry光刻机的极限工艺为55nm，因此国产光刻机最多只能够支撑55nm工艺，无法实现更高的工艺水平虽然目前国内光刻机的分辨率和工艺水平还不。

国产自主新式光刻机采用了最新的光源技术，可以有效提高曝光速度和分辨率，从而实现更高的制造精度12光学系统 国产自主新式光刻机的光学系统采用了最新的光学设计技术，可以实现更高的分辨率和更精确的图形重复性13控制。

下面来了解下国产光刻机和荷兰光刻机的差距一光刻机中国能造吗可以目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司SMEE，它可以做到最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的intel奔腾四处理器的水平。