1、国产光刻机现状技术水平逐步提高，其中“光刻机国家重大科技专项”最具代表性国产化率逐年提高，但与国际巨头还存在一定差距。

2、由于早些年国内对光刻机这块并不算重视，导致中国光刻机的起步晚资金投入少人才也相对不足，这些都是需要解决的问题除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备。

3、尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车二国内公司可以自主购买EUV光刻机来解决这一现状吗答案是否定的要知道华为缺芯事件就是美国从中作梗，更不可能让；正是由于国外的光刻机生产企业展现出了极强的竞争力，这导致中国的光刻机领域受到了极大的冲击三欧美国家对于中国的技术封锁，使得中国无法提升光刻机的技术虽然中国曾在光刻机领域取得了不小的优势，但是如果一直无法；国产光刻机产品应用主要其中在半导体后道封装LED面板等领域，2020年中国光刻机产量为62台，2021年国内产量为75台光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把；国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程，两者之间的差距相当。

4、时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微。

5、4国际竞争光刻机市场竞争激烈，国内企业需要具备与国外光刻机厂商竞争的实力，包括在性能质量和价格等方面都有竞争力5市场需求光刻机的需求与半导体产业的发展紧密相关如果半导体市场持续增长，国内企业国产化光。

6、对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法实现，毕竟我国在光刻机这一步起步要远远晚于国外并且很多技术都已经被国外垄断，我国只能够自主进行设计，期待有一天能够实现弯道超车我国芯片水平难以前进，这与人才有关。