很多~我知道先进半导体，新进半导体，华虹，中芯国际都用，其他的场没有去看过就不清楚了~。

相信在国内企业的共同努力下，未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的而到了14nm这个级别，至少用在手机和通信设备上是没有问题的，可以保证华为的主营业务存续，剩下的则仍然需要慢慢追赶至少光刻机。

与Intel 7工艺相比，在同样的功耗下ldquo4nm EUVrdquo工艺频率提升215%，功耗降低了40%改用EUV光刻机之后，ldquo4nm EUVrdquo工艺良率也高了，生产制造也更简单了，不用多次曝光了，工艺步骤减少了5%。