为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努力下，中国的光刻机研制跳出了缩小波长增大数值口径来提高分辨力的老路子，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的技术，也为超分辨光刻装备提供了理论基础。

华天科技等然而，与国际领先企业相比，中国在光刻机核心技术设备性能和产能上仍存在差距因此，中国需要继续加大研发投入，提升技术水平，与国际领先企业竞争，实现光刻机自主生产，进一步推动半导体产业的发展。

以至于很长一段时间，科研圈谈芯色变，严重干扰了芯片行业的正常发展目前上海微电子装备有限公司能量产的光刻机是65nm制程2019年，由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收，完成国际上首台分辨；我们当初本来想从国外先引进光刻机，然后再自己进行研制的，所以就和荷兰商议了相关的细节，双方都已经决定交易了，可是美国横插一脚，百般阻拦，荷兰也没有勇气得罪美国，因为美国的再三施压，和中国的光刻机贸易计划只能一拖。

在中国根本不可能实现基础技术的延续性根本达不到，何谈机械制品的精度和装配工艺 光刻机制造瓶颈在克刻的精度要求，所以要以要求定精度，主要是机械制造上要严要，首先是制造的母机精度再谈的上制造精度，再就是制造的人才，精度一高；中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标这是荷兰ASML实现的而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的其中，制造光源的设备来自美国公司镜片。

我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法；上海微电子光刻机在国内是最先进的光刻机研发制造企业，其前道光刻机能够实现90nm制程，在国内市场份额超过80%，并且也销往国外但与国际先机光刻机相比，上海微电子光刻机却处于低端光刻机序列 目前光刻机市场几乎被荷兰ASML日本。