要知道，我国目前的量产光刻机还处于90nm的阶段，比ASML光刻机落后了十多年可见差距之大，也说明我国加强光刻机建设刻不容缓2最近传来的好消息是，光刻机的问题可以得到有效...

为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努力下，中国的光刻机研制跳出了缩小波长增大数值口径来提高分辨力的老路子，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的技术...